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氧化铟锡(ito)基板前处理(1) ito表面平整度：ito已广泛应用在商业化的显示器面板制造，其具有高透射率、低电阻率及高功函数等优点。一般而言，利用射频溅镀法(rf sputtering)所制造的ito，易受工艺控制因素不良而导致表面不平整，进而产生表面的尖端物质或突起物。另外高温锻烧及再结晶的过程亦会产生表面约10 ~ 30nm的突起层。这些不平整层的细粒之间所形成的路径会提供空穴直接射向阴极的机会，而这些错综复杂的路径会使漏电流增加。一般有三个方法可以解决这表面层的影响?u一是增加空穴注入层及空穴传输层的厚度以降低漏电流，此方法多用于pled及空穴层较厚的oled(~200nm)。二是将ito玻璃再处理，使表面光滑。三是使用其它镀膜方法使表面平整度更好。(2) ito功函数的增加：当空穴由ito注入hil时，过大的位能差会产生萧基能障，使得空穴不易注入，因此如何降低ito / hil接口的位能差则成为ito前处理的重点。一般我们使用o2-plasma方式增加ito中氧原子的饱和度，以达到增加功函数之目的。ito经o2-plasma处理后功函数可由原先之4.8ev提升至5.2ev，与hil的功函数已非常接近。加入辅助电极，由于oled为电流驱动组件，当外部线路过长或过细时，于外部电路将会造成严重之电压梯度，使真正落于oled组件之电压下降，导致面板发光强度减少。由于ito电阻过大(10 ohm / square)，易造成不必要之外部功率消耗，增加一辅助电极以降低电压梯度成了增加发光效率、减少驱动电压的快捷方式。铬(cr：chromium)金属是常被用作辅助电极的材料，它具有对环境因子稳定性佳及对蚀刻液有较大的选择性等优点。然而它的电阻值在膜层为100nm时为2 ohm / square，在某些应用时仍属过大，因此在相同厚度时拥有较低电阻值的铝(al：aluminum)金属(0.2 ohm / square)则成为辅助电极另一较佳选择。但是，铝金属的高活性也使其有信赖性方面之问题因此，多叠层之辅助金属则被提出，如：cr / al / cr或mo / al / mo，然而此类工艺增加复杂度及成本，故辅助电极材料的选择成为oled工艺中的重点之一。
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rgb象素独立发光 利用发光材料独立发光是目前采用很多的彩色模式。它是利用精密的金属荫罩与ccd象素对位技术，先制备红、绿、蓝三基色发光中心，然后调节三种颜色组合的混色比，产生真彩色，使三色oled元件独立发光构成一个像素。该项技术的关键在于提高发光材料的色纯度和发光效率，同时金属荫罩刻蚀技术也至关重要。有机小分子发光材料alq3是很好的绿光发光小分子材料，它的绿光色纯度，发光效率和稳定性都很好。但oled很好的红光发光小分子材料的发光效率只有31mw，寿命1万小时，蓝色发光小分子材料的发展也是很慢和很困难的。有机小分子发光材料面临的很大瓶颈在于红色和蓝色材料的纯度、效率与寿命。但人们通过给主体发光材料掺杂，已得到了色纯度、发光效率和稳定性都比较好的蓝光和红光。高分子发光材料的优点是可以通过化学修饰调节其发光波长，现已得到了从蓝到绿到红的覆盖整个可见光范围的各种颜色，但其寿命只有小分子发光材料的十分之一，所以对高分子聚合物，发光材料的发光效率和寿命都有待提高。不断地开发出性能优良的发光材料应该是材料开发工作者的一项艰巨而长期的课题。随着oled显示器的彩色化、高分辨率和大面积化，金属荫罩刻蚀技术直接影响着显示板画面的质量，所以对金属荫罩图形尺寸精度及精度提出了更加苛刻的要求。
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oled显示技术具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，当有电流通过时，这些有机材料就会发光，而且oled显示屏幕可视角度大，并且能够节省电能，从2003年开始这种显示设备在mp3播放器上得到了应用。以oled使用的有机发光材料来看，一是以染料及颜料为材料的小分子器件系统，另一则以共轭性高分子为材料的高分子器件系统。同时由于有机电致发光器件具有发光二极管整流与发光的特性，因此小分子有机电致发光器件亦被称为oled(organic light emitting diode)，高分子有机电致发光器件则被称为pled (polymer light-emitting diode)。小分子及高分子oled在材料特性上可说是各有千秋，但以现有技术发展来看，如作为监视器的信赖性上，及电气特性、生产安定性上来看，小分子oled处于领先地位。当前投入量产的oled组件，全是使用小分子有机发光材料。
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